最先端の薄膜技術でオプトエレクトロニクス分野をリードする 株式会社トーカイ

Pick Up

パターン成膜(フォトリソ工程)

2022年01月30日

フォトリソ工程(レジスト/リフトオフ)と蒸着技術を併用し、パターンを有するフィルターを高性能に製作可能。

①作業環境/保有設備

様々な成膜技術と組み合わせて高精度なパターンフィルター/ミラーを製作します。

スーパークリーンルーム  ISOクラス1
スーパークリーンルーム ISOクラス1

【工程流れ】*設備紹介 

最大対応サイズ:Φ6in / 最大基板厚さ:25mm(プリズム対応可能)

②パターン精度(ダイクロ膜 L/S)

L/S=最大1μmの精度まで可能。

③境界線精度(滲み)

メタルマスクとの比較(弊社比較)

④パターン例

1)ダイクロ/遮光膜

2)ARMC/遮光膜

3)ミラー膜/吸収膜/ARMC

ページトップへ