最先端の薄膜技術でオプトエレクトロニクス分野をリードする 株式会社トーカイ
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2022年01月30日
フォトリソ工程（レジスト/リフトオフ）と蒸着技術を併用し、パターンを有するフィルターを高性能に製作可能。
様々な成膜技術と組み合わせて高精度なパターンフィルター/ミラーを製作します。
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| スーパークリーンルーム ISOクラス1 |
【工程流れ】＊設備紹介
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最大対応サイズ：Φ6in / 最大基板厚さ：25mm（プリズム対応可能）
②パターン精度（ダイクロ膜 L/S）
L/S=最大1μmの精度まで可能。
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③境界線精度（滲み）
メタルマスクとの比較（弊社比較）
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④パターン例
1)ダイクロ/遮光膜
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2)ARMC/遮光膜
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3)ミラー膜/吸収膜/ARMC
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