フォトリソ工程（レジスト/リフトオフ）と蒸着技術を併用し、パターンを有するフィルターを高性能に製作可能。

①作業環境/保有設備

様々な成膜技術と組み合わせて高精度なパターンフィルター/ミラーを製作します。

スーパークリーンルーム ISOクラス1

【工程流れ】＊設備紹介

最大対応サイズ：Φ6in　/ 最大基板厚さ：25mm（プリズム対応可能）

②パターン精度（ダイクロ膜 L/S）

L/S=最大1μmの精度まで可能。

③境界線精度（滲み）

メタルマスクとの比較（弊社比較）

④パターン例

1)ダイクロ/遮光膜

2)ARMC/遮光膜

3)ミラー膜/吸収膜/ARMC